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半导体晶圆划片保护液 |
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国内外研究现状
2011年，瑞⼠的微纳系统研究部提出了如下图所示的基于TSV技术圆片级 真空
封装⽅案。该⽅案由TSV封帽与器件层两部分构成，TSV封帽垂直导 通柱是填
充在硅通孔中的铜柱。器件层上制作有⾦锡电极与铜柱相连，从 ⽽把电信号从
空腔内部的引到空腔外部，后通过硅-硅直接键合实现密 封。该⽅案⽓密性
很好，但是TSV封帽制作⼯艺复杂，热应⼒⼤(铜柱与 硅热失配⼤)，且硅硅键
合对键合表面要求质量很⾼，⼀般加⼯过的硅片 很难达到此要求。
半导体晶圆划片保护液是一种用于半导体晶圆切割过程中的液体，主要起到润滑、冷却和保护作用。 它能够有效地减少切割过程中的摩擦和热量，防止晶圆受损，同时还能消毒和防止微生物生长，延长切割工具的寿命。
半导体晶圆划片保护液的主要成分包括非离子表面活性剂、消毒活性物质和其他功能性物质。这些成分能够消除硅尘颗粒，消毒生产系统，提供易于冲洗的低发泡液体，减少和中和静电荷。它们还能润滑切丁刀片，降低摩擦和表面张力，起到冷却剂的作用，减少导致硅片裂纹的热量。
半导体晶圆划片保护液的应用领域非常广泛，适用于各种半导体、硅片、芯片、晶圆等脆性材料的切削、磨削等机加工。它能够快速润湿晶圆表面，排出硅粉颗粒物，提高切割效能，降低芯片切割损伤，有效提高产品切割产能。
不同类型的半导体晶圆划片保护液在成分和使用方法上可能有所不同。例如，一些保护液包含非离子表面活性剂、消毒活性物质和其他功能性物质，通常以浓缩物的形式提供，使用时需要按一定比例稀释。此外，还有针对金属电极和基材的保护液，这些保护液通常包含特定的化学成分，如聚合物、肟类化合物、pH调节剂等，以确保在半导体晶圆制造过程中的稳定性和保护性
北京汐源科技有限公司
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