西安电子元器件网西安电子产品制造设备西安电镀设备陶瓷管壳封装,动态硅通孔填充⼯艺 免费发布电镀设备信息

陶瓷管壳封装,动态硅通孔填充⼯艺

更新时间:2024-05-11 10:42:03 编号:68cvlh7u2f129
分享
管理
举报
  • 面议

  • 硅通孔填充⼯艺,铜电化学沉积,动态硅通孔填充⼯艺,TSV电镀

  • 8年

徐发杰

18515625676

微信在线

产品详情

关键词
辽宁硅通孔填充⼯艺,硅通孔填充⼯艺晶圆,点胶机,硅通孔填充⼯艺晶圆
面向地区

陶瓷管壳封装,动态硅通孔填充⼯艺

在三维集成中 TSV 技术可分为三种类型:在 CMOS ⼯艺过程之前在硅片 上完成
通孔制作和导电材料填充的是先通孔技术;⽽中通孔,在CMOS制 程之后和后端
制程(BEOL)之前制作通孔。后⼀种后通孔技术是在 CMOS ⼯艺完成后但未
进⾏减薄处理时制作通孔。终技术⽅案的选择要 根据不同的⽣产需求。

北京汐源科技有限公司 汉高授权代理商,专注于电源、新能源、汽车电子、半导体行业胶黏剂产品,公司拥有一批高素质的技术人员,为了客户提供胶黏剂技术一站式解决方案。
公司主要经营品牌包含:汉高、乐泰、汉新、道康宁、洛德、3M等。
公司主要经营产品包含:导热胶、导电胶、灌封胶、密封胶、三防漆、导热垫片、UV胶、芯片保护液、晶圆划片液、晶圆临时键合胶、晶圆清洗液等。
经营设备:晶圆划片机 芯片键合机 点胶机 平行封焊机等。
失效分析技术:Decap开盖,x-ray,快速封装,陶瓷封装,管壳封装,气密性测试,拉力测试,剪切力测试等。

TSV绝缘层
TSV 的⾦属填充需要用到绝缘层来对硅衬底进⾏充分的电⽓隔离。绝 缘层的⼯
艺要求包括良好的阶梯覆盖率,⽆漏电流,低应⼒,⾼击穿电 压,以及不同
的 TSV 集成引起的加⼯温度的限制。⼆氧化硅(SiO2)或 氮化硅(Si3N4)是常用于
等离⼦体增强化学⽓相沉积(PECVD)或减压 化学⽓相沉积(SACVD)的绝缘层。
然⽽,当 TSV 直径小于 3 μm 时, 绝缘层更适用于原⼦层沉积(ALD)。ALD有
⼏个优势,如较低的热预 算,比现有流程更好的阶梯覆盖率,⽆需再进⾏表面
处理,并且由于较薄 的绝缘层,降低了 TSV 的 CMP 加⼯时间。

销售各类电子材料,经营品牌:3M屏蔽胶带,3M导电胶,3M导电胶,3M防护用品,3M口罩,3M耳塞,,汉高电子胶,洛德EP-937,洛德SC-305,SC-309,SC-320,道康宁184,道康宁DC160 ,, , ,迈图YG6260,,(Henkel)、,爱玛森康明(Emerson&Cuming),ABLEBOND 84-1,AMICON 50262-3,, Emerson&Cuming E1211,E1213,E1330, ,,Ablestik ,乐泰 QMI516, 乐泰 电子胶,乐泰,乐泰 QMI 600, 乐泰 QMI168, 乐泰 MG40F, 乐泰 KL-2500, 乐泰 KL-5000HT,KL-6500H,KL-7000HA, 乐泰 GR828D,KL-8500 MOLDING COMPOUND, 乐泰 GR9810-1,GR9820,Emerson&cuming 爱玛森康明, ,CRC三防漆,CRC70,,,施敏打硬喇叭胶,,三键TB120,三键TB1230,三键TB3160,三键TB3300系列,三键TB2500,,,,三键有机硅胶,, ,,,Loctite乐泰595,Loctite乐泰495,易力高DCA-SCC3三防胶,小西14241,汉新5295B ,汉新 2081,道康宁Q3-3600。易力高 Electrolube、、、日本小西 Konishi、、乐泰 Loctite、道康宁 Dow Corning、日本矿油、、MAXBOND等绝缘导热胶、防潮绝缘胶、灌注封装胶、单组份室温硫化硅橡胶、电子硅酮胶、粘接胶、密封胶、封装胶、耐热胶、防火胶、邦定胶、绿胶、红胶、透明胶、青红胶、喇叭胶、环氧树脂、无铅散热膏、硅油、变压器用胶,手机用胶,马达用胶,扬声器用胶,有机硅胶,导热硅脂,摄像头用胶,LCD用胶,LED用胶,电源用胶,半导体电子胶,COB胶,,UV 胶,导电胶,导热胶,电器灌封胶,发泡胶,底部填充胶,环氧树脂,聚氨酯,有机硅胶,RTV硅胶,HTV硅胶点胶机各种电子用类胶水产品的销售.具UL和SGS、MIL认证资格.是电子、电器、家电、光电、电机等行业的配套行业.高导热环氧树脂灌封胶2850FT,乐泰2850ft cat11固化剂 ,传感器灌封胶,电源模块灌封胶。

小型喷镀机台
配备有Stir Cup适用于研发以及小批量生产。
特别适合于镀孔,Sn/Ag电镀,Cu pillar等电镀制程。
铜凸块制程即wafer从晶圆加工完成基体电路后,利用涂胶、黄光、电镀及蚀刻制程等制作技术通过在芯片表面制作铜锡凸点,提供了芯片之间、芯片和基板之间的“点连接”,由于避免了传统Wire Bonding 向四周辐射的金属“线连接”,减小了芯片面积(封装效率),此外凸块阵列在芯片表面,引脚密度可以做得很高,便于满足芯片性能提升的需求,并具有较佳抗电迁移和导热能力以及高密度、低阻抗,低寄生电容、低电感,低能耗,低信噪比、低成本等优点。

留言板

  • 硅通孔填充⼯艺铜电化学沉积动态硅通孔填充⼯艺TSV电镀辽宁硅通孔填充⼯艺硅通孔填充⼯艺晶圆点胶机
  • 价格商品详情商品参数其它
  • 提交留言即代表同意更多商家联系我
小提示:陶瓷管壳封装,动态硅通孔填充⼯艺描述文字和图片由用户自行上传发布,其真实性、合法性由发布人负责。
徐发杰: 18515625676 让卖家联系我